安徽晶圓級(jí)FIB制樣TEM/SEM分析-芯片失效分析
廣州廣電計(jì)量檢測(cè)股份有限公司
2025-10-29 12:21:02
【非硅基材料FIB制樣與TEM分析】








【常規(guī)定點(diǎn)截面加工技術(shù)應(yīng)用】
常規(guī)定點(diǎn)截面加工是DB-FIB的基礎(chǔ)應(yīng)用之一,為半導(dǎo)體與非半導(dǎo)體樣品提供定制化服務(wù)。通過(guò)預(yù)設(shè)坐標(biāo)與離子束路徑,實(shí)現(xiàn)對(duì)Wafer、PCB、元器件等樣品的精準(zhǔn)切割,暴露內(nèi)部結(jié)構(gòu)用于SEM觀察或能譜分析?!緩V電計(jì)量電鏡掃描測(cè)試】該服務(wù)適用于工藝監(jiān)控、封裝質(zhì)量評(píng)估與材料界面研究。我們支持多種樣品類(lèi)型,按小時(shí)報(bào)價(jià),并配備自動(dòng)化系統(tǒng)提升加工一致性。廣電計(jì)量以快速響應(yīng)與高精度操作,滿足客戶(hù)從研發(fā)到量產(chǎn)的全周期檢測(cè)需求。


【先進(jìn)制程芯片F(xiàn)IB-TEM集成分析】
隨著芯片制程進(jìn)入7nm及以下節(jié)點(diǎn),傳統(tǒng)顯微技術(shù)難以滿足納米級(jí)結(jié)構(gòu)解析需求。通過(guò)DB-FIB制備超薄樣品,結(jié)合TEM實(shí)現(xiàn)原子級(jí)分辨率成像與成分分析。服務(wù)重點(diǎn)針對(duì)金屬層、M0層、FinFET等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),用于工藝穩(wěn)定性驗(yàn)證、競(jìng)品分析與逆向工程?!緩V電計(jì)量電鏡掃描測(cè)試】擁有消除窗簾效應(yīng)、階梯減薄等專(zhuān)利技術(shù),確保樣品無(wú)損與圖像清晰。該服務(wù)已成為國(guó)內(nèi)晶圓廠與設(shè)計(jì)公司不可或缺的技術(shù)支撐。




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關(guān)鍵詞:電鏡掃描sem,TEM透射電子顯微鏡拍攝分析,掃描電鏡fib,掃描電鏡報(bào)告
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