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二氧化鋯325目 60-80目應(yīng)用高溫耐火坩堝
二氧化鋯，白色粉末，高熔點（2410℃），化學惰性強，常溫下穩(wěn)定；釔離子（Y3?）可用于晶格摻雜。是 YSZ 最核心的穩(wěn)定劑原料，也單獨用于熒光粉（Y?O?:Eu3?紅光）、激光晶體（YAG 基質(zhì)）、高溫耐火坩堝。 核心性能 力學：高硬度（接近剛玉）、高斷裂韌性（相變增韌）、抗彎面議2026-03-30 -
無水氯化鑭
三氯化鑭（無水氯化鑭）為粉末狀，這個產(chǎn)品極易吸潮，所以多為真空裝，以確保產(chǎn)品的穩(wěn)定性能。本品主要用于稀土金屬，醫(yī)用輔料，新材料研發(fā)。大包裝為20kg/袋 真空裝 外為紙板桶，量大打托送貨上門 10099-58-8 無水氯化鑭 （三氯化鑭） 10025-84-0 水合氯化鑭（七水氯化鑭面議2026-03-30 -
氧化鋯2000目 高頻陶瓷二氧化鋯325目
耐火材料：用于生產(chǎn)鋯磚、鋯管、坩堝等，適用于冶金、玻璃、陶瓷等高溫工業(yè) 陶瓷工業(yè)：作為陶瓷原料，提升陶瓷的耐高溫性、耐磨性和化學穩(wěn)定性；用于壓電陶瓷、日用陶瓷等 電子元器件：用于制造高頻陶瓷、電容器、傳感器等，利用其高電阻率和低熱膨脹系數(shù)特性 金屬冶煉：面議2026-03-30 -
鈰銨 16774-21-3現(xiàn)貨報價
在酸性條件下，Ce??將金屬 Cr 氧化為可溶性 Cr3?，自身被還原為 Ce3?： 二元掩模（Binary Mask）：芯片、面板、MEMS 的標準鉻掩模圖形化 相位偏移掩模（PSM）：半色調(diào) / 衰減型 PSM 的鉻層蝕刻 掩模返工：不合格鉻層整體去除、基板回收 reuse 科研 / 小批量：實驗室鉻掩面議2026-03-30 -
三氟化釔粉末13709-49-4
三氟化釔無水粉末13709-49-4 分子式:YF3 用途:紅外薄膜,光釬摻雜,紅外波段的優(yōu)良材料。氟化釔在半導體里穩(wěn)定發(fā)揮，提升器件性能。 高溫部件涂層： 高純度的氟化釔粉末熔點高（約 1377），可作為高溫防護涂層材料，用于航天器發(fā)動機噴嘴、燃燒室壁面等高溫部件，增強其面議2026-03-30 -
高溫涂層與陶瓷材料三氟化釔
? 金屬釔制備的核心原料：熔融鹽電解 YF?（常搭配 LiF 等助熔劑）是工業(yè)生產(chǎn)金屬釔的主要工藝；金屬釔用于稀土鎂 / 鋁 / 鋯合金改性，提升高溫強度、耐腐蝕性與焊接性能，應(yīng)用于航空發(fā)動機、高溫爐具部件。 ? 光學與激光材料：中紅外高透光 + 低折射率，作為紅外窗口、激面議2026-03-30 -
粉末型氯化鑭 復(fù)合除氟材料
粉末型氯化鑭（直接投加） 市售：工業(yè)級 / 試劑級 LaCl? 粉末（有效 La 含量約 45%） 用法：直接投加含氟廢水，攪拌反應(yīng)，沉淀分離 優(yōu)勢：工藝簡單、見效快；適合應(yīng)急 / 高濃度氟廢水 2. 負載型 / 復(fù)合除氟材料（吸附劑） 海藻酸鑭小球：LaCl? + 海藻酸鈉 → 滴球成型 →面議2026-03-30 -
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料
can鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導電膜蝕刻 1. 半導體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化面議2026-03-30 -
鈷鍍層 鈷鹽10026-22-9 工廠
鈷鍍層電鍍 用途：直接用于電鍍鈷單質(zhì)或鈷合金（如鈷鎳、鈷鐵、鈷鎢等），形成具有特定性能的金屬鍍層。 鈷鎳合金： 特性：結(jié)合鈷的硬度和鎳的延展性，鍍層耐蝕性優(yōu)于純鎳，常用于醫(yī)療器械、海洋工程等。 功能性鍍層拓展 納米復(fù)合鍍層：在硝酸鈷電解液中添加納米顆粒（面議2026-03-30 -
氟化鈰 光學鍍膜材料
三氟化鈰CeF3是一種無機化合物，又稱氟化鈰(III)，CAS號為7758-88-5，屬于稀土氟化物。其晶體屬六方晶系，具有寬透過波段和低聲子能量特性，可用于激光基質(zhì)材料和磁光隔離器。氟化鈰廠家、氟化鈰批發(fā)、氟化鈰氟化物 關(guān)于氟化鈰的主要介紹 英文名稱:Cerium fluoride 分子式:面議2026-03-30 -
10026-22-9硝s酸鈷六水 鍍層鈍化液
鋁合金表面鈍化 在鋁合金表面處理中，硝s酸鈷常與鉻酸鹽、磷s酸鹽等復(fù)配，形成鈍化液。Co2?通過與鋁表面的氧化層反應(yīng)，生成含鈷的復(fù)合氧化物膜（如 CoAl?O?），彌補傳統(tǒng)鉻酸鹽鈍化的環(huán)保缺陷（降低六價鉻用量），同時提高膜層的耐蝕性和附著力。 應(yīng)用場景：航空航天、汽車零面議2026-03-30 -
氯化鈰 電鍍添加劑 無水鈰鹽材料
三氯化鈰在用于制備金屬鈰或鈰基合金的重要原料 添加劑：直接添加到合金體系中，顯著改善合金性能 作為合金添加劑 直接添加到合金熔體或電鍍液中，添加量通常在0.02~0.5wt%，即可顯著改善性能 添加方式 典型應(yīng)用 性能提升 合金熔煉添加在鋁合金、銅合金、高溫合金中具面議2026-03-30 -
氯化鈰CeCl? 三氯化亞鈰 金屬鈰的材料
氯化鈰（CeCl?）是一種含鈰的氯化物，而鈰作為稀土元素， 關(guān)于稀土氯化鈰的詳細說明 化學性質(zhì)：屬于典型的稀土氯化物，具有較高的化學活性，可用于制備其他鈰化合物或金屬鈰（通過電解等方法）。 氯化鈰本身并非合金，但它是制備金屬鈰的重要原料，而鈰作為合金添加劑，面議2026-03-30 -
高純度 CAN 溶液 鈰銨鉻掩模蝕刻
化學機械拋光（CMP） 納米 CeO?磨料前驅(qū)體：高純度 CAN（≥5N）經(jīng)熱解 / 水熱法制備單分散 CeO?納米磨料，用于晶圓、SiC/GaN 襯底、銅互連的全局平坦化。 性能優(yōu)勢：莫氏硬度 6.5，實現(xiàn)原子級平整度（Ra≤0.1nm）；SiC 去除速率達 1500–2000 ?/min（較 SiO?提升 3 倍），缺面議2026-03-30 -
脫硝催化劑 鈷 鈰 錳 銅 鉻 釩鈦催化劑高溫活性好
鈷是催化反應(yīng)中 “鈷活性中心” 的重要來源，憑借鈷離子的氧化還原能力，在脫硫、脫硝、有機合成等催化場景中發(fā)揮關(guān)鍵作用，也是其最核心的應(yīng)用方向之一。 1. 脫硫催化劑（前文重點提及） 燃油氧化脫硫：作為鈷基催化劑的前驅(qū)體，可通過水熱法、浸漬法制備 Co-MOF（金屬有機框面議2026-03-30 -
鈰銨氧化劑can 透明導電膜蝕刻
鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導電膜蝕刻 1. 半導體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化 Si面議2026-03-30 -
三氯化鑭 合金材料 稀土系儲氫合金
用于制備金屬鑭進而制造特種合金：三氯化鑭是制備金屬鑭的重要原料。通過電解無水三氯化鑭的熔鹽體系，可以獲得高純度的金屬鑭。金屬鑭可用于制造特種合金，例如鋁鑭合金，具有高強度、良好的耐熱性和耐腐蝕性等優(yōu)點，主要應(yīng)用于航空航天等對材料性能要求較高的領(lǐng)域。 作為面議2026-03-30 -
光掩模鉻層蝕刻16774-21-3 鈰銨專供
鈰銨是鉻掩模標準蝕刻液核心成分： 選擇性好，不傷及光刻膠、玻璃 線寬精度高，用于芯片、面板掩膜版 晶圓清洗與表面處理 強氧化性，去除有機物、金屬雜質(zhì)，提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。 2. 顯示面板（LCD / OLED / TFT） ITO 透明導電膜蝕刻液 用于蝕刻 ITO、IZO 等透面議2026-03-30 -
硝s鈷在電鍍工業(yè)中可用于制備鈷鍍層
酸鈷是制備多種催化劑的重要原料，尤其在石油化工和化學合成領(lǐng)域。它可以用于制備加氫、脫氫、氧化、還原等反應(yīng)的催化劑，顯著提高反應(yīng)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。例如，在石油煉制中，硝s酸鈷可作為加氫脫硫、加氫脫氮等反應(yīng)的催化劑，提升反應(yīng)效率和產(chǎn)物選擇性；在化學合成中，它可面議2026-03-30 -
鈰銨用于抗反射膜（AR 膜）
鈰銨（CAN）是制備氧化鈰（CeO?）抗反射膜（AR 膜）的核心高純鈰源，憑借高水溶性、易提純、成膜均勻等優(yōu)勢，廣泛用于太陽能電池、光學器件、顯示面板等領(lǐng)域，核心是通過光干涉效應(yīng)實現(xiàn)減反射與增透。水溶性極佳：易溶于水 / 醇，適配溶膠 - 凝膠、旋涂、浸涂等濕法工藝，分面議2026-03-30
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