華諾mask掩模版,科研高精度精密電極蒸鍍掩膜板

500元2022-12-06 08:00:56
  • 北京華諾恒宇光能科技有限公司
  • 掩膜版
  • 聚酯薄膜狹縫掩膜版,304不銹鋼掩膜版,掩膜版廠家,304不銹鋼方形陣列掩膜板
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北京華諾恒宇光能科技有限公司

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詳情

加工周期 最快12小時出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

華諾mask掩模版,科研高精度精密電極蒸鍍掩膜板

本公司承接各種圖案定制，客戶能提供包含尺寸的CA設(shè)計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩膜版設(shè)計提供一些建議。


激光加工掩膜版主要有以下特的優(yōu)點(diǎn)：
1、生產(chǎn)效率高，質(zhì)量可靠，經(jīng)濟(jì)效益。
2、激光加工過程中無“”磨損，無“切削力”作用于工件。
3、可以對多種金屬、非金屬加工，特別是可以加工高硬度、高脆性及高熔點(diǎn)的材料。
4、激光束易于導(dǎo)向、聚焦實現(xiàn)作各方向變換，極易與數(shù)控系統(tǒng)配合、對復(fù)雜工件進(jìn)行加工，因此它是一種極為靈活的加工方法。
5、無接觸加工，對工件無直接沖擊。
6、熱影響區(qū)小，工件熱變形小，后續(xù)加工量小。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

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